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看準台積電大幅採用 EUV,科磊推電子束圖案化晶圓缺陷檢測

日期:2020-08-07

美商半導體設備商科磊(KLA)近日宣布,推出革命性的 eSL10 電子束圖案化晶圓缺陷檢測系統。

透過該項新的檢測系統,可以發現相關光學或其他電子束缺陷檢測系統無法穩定偵測的缺陷,藉此以加快高性能邏輯和記憶體晶片,其中包括那些依賴於極紫外光刻(EUV) 技術的晶片的上市時間。

科磊指出,過去的電子束檢測系統僅能提供使用者選擇偵測供靈敏度或速度,這嚴重限制了其實際應用。而 eSL10 採用全新設計,採用了多年研發的多項突破性技術,可提供高解析和高速的缺陷檢測,其性能是市場中任何其他電子束系統都無法比擬的。

eSL10 電子束檢測系統採用多項革命性技術,使其有能力填補目前關鍵缺陷檢測的空白。例如,獨特的電子光學設計可提供業內最廣泛的操作範圍,可捕獲各種設備製程中的缺陷。還有,Yellowstone 掃描模式,在每次掃描中收集 100 億畫素的資料並支持高速運算同時又不會影響解析度,這樣可以在廣闊的區域內有效地計算偵測可疑熱點或發現缺陷。

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