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知識分享

薄膜的光譜橢圓偏光計量從容面對45nm及以下節點

建立日期：2018/02/21
  • 作者： Arun R. Srivatsa/KLA-Tencor
  • 出處： 半導體技術天地
  • 內容： 任職於KLA-Tencor 公司的作者，認為光譜橢圓偏光法仍然會是薄膜監測的可選擇技術，而且將滿足日趨複雜的65nm和45 nm計量需求。


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