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知識分享

光學自動定位及元件瑕疵檢測系統開發

建立日期：2018/03/09
  • 作者： 逢甲大學：葉俊緯、賴群煌、林宸生、田春林
  • 出處： 2016 AOI論壇與展覽
  • 內容： 從有瑕疵的晶圓(Wafer)資料上可以提供工程師改善製程良率問題，是非常重要的資料與線索之一，為了使晶圓達到最佳的良率以及品質的改善，本研究開發一套顯微鏡自動定位和Wafer瑕疵檢測系統，以二維手動移動平台(XY table)移動6吋或8吋wafer上的每個晶蕊 (Die)，再利用高解析度CCD及薄型光學尺以精準量測並讀取wafer上的位置，最後利用人機介面，模擬真實Wafer 目前所在的位置，完成其自動定位，並且可以建立Wafer Map資料庫。在檢測瑕疵過程中，使用CCD進行影像處理，在前置處理中，我們必須濾除雜訊，擷取缺陷的特徵後，定義出缺陷樣板，再把缺陷樣板的特徵點當作參考輸入，利用模糊推論等方式，以完成建構高精度的光學自動定位和元件瑕疵檢測系統。本研究以自動檢測汙點、刮痕和擦傷為主，此系統能減少檢測瑕疵Die缺陷的時間，以提高檢測半導體元件瑕疵的速度與精準度。
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