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知識分享

一種新的白光干涉峰值判定法

建立日期：2018/02/12
  • 作者： 陳元方等
  • 出處： 成功大學機械系 陳元方、胡世國、葉力旗
  • 內容： 隨著微機電系統的發展，物體結構及元件都愈做愈小，結構表面形貌檢測方面的解析度要求愈來愈高，其中干涉量測技術具高解析度和不會對待測物表面造成傷害的優點，因此使用光學干涉法作為量測技術愈益廣泛。白光干涉術垂直解析度可達奈米尺寸，量測中常需找出干涉條紋中最大的值，來推算所對應的高度值。在此文中吾人發展一峰值判定法，直接對干涉條紋圖作峰值判定，即將干涉條紋每3 點做二階的曲線密合，得到密合的峰值，再將每三點密合後的峰值取出，進而得到包絡線，再搭配高斯曲線密合，找出干涉強度最大的位置，藉此，以使量測時間減少。文中吾人自行發展一套白光干涉量測系統及相關軟體，配合Mirau 鏡，用於微結構表面形貌的量測，經實測比較，峰值判定法和常用的傅利葉轉換法所得到的結果相當接近，在速度上卻能降低30%

    【論文全文請詳附加檔案說明】
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