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技術供應

半導體製程 Overlay 量測技術
Overlay metrology in Semiconductor

發布日期：2018-03-13
  • 研發團隊： 顧逸霞、劉安順、李雅萍、柯俊宏、龐秀蘭、徐得銘、周森益、蘇哲暐
  • 研發團隊負責人：
  • 技術類別： 其他
  • 應用領域： 半導體/晶粒檢測
  • 技術簡介： 由於雙層光柵的疊對(Overlay)特性對繞射光具有明顯的影響，因此藉由此種光柵特性，設計出具有高疊對靈敏度的光柵式對準鍵結構。目前分別設計了用於光學顯微鏡及角度散射儀(Angular Scatterometer)在疊對量測上所需的光柵式對準鍵結構。此種利用光柵的繞射特性所設計的對準鍵結構比傳統的結構具有更好的量測靈敏度。
  • 技術規格：
    1. 1.Wafer overlay control (nm) < 5nm
    2. 2.Wafer overlay metrology precision < 1nm
  • 優點：
    1. 1.較佳的靈敏度
    2. 2.可多參數同時量測(如同時可獲得疊對,關鍵尺寸,及厚度之數據)
    3. 3.已與業界合作研發
  • 合作或技轉聯絡人： 顧逸霞/ TEL 03-5732103/手機035732103/ yku@itri.org.tw
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