美商半導體設備商科磊（KLA）近日宣布，推出革命性的 eSL10 電子束圖案化晶圓缺陷檢測系統。
透過該項新的檢測系統，可以發現相關光學或其他電子束缺陷檢測系統無法穩定偵測的缺陷，藉此以加快高性能邏輯和記憶體晶片，其中包括那些依賴於極紫外光刻（EUV） 技術的晶片的上市時間。
科磊指出，過去的電子束檢測系統僅能提供使用者選擇偵測供靈敏度或速度，這嚴重限制了其實際應用。而 eSL10 採用全新設計，採用了多年研發的多項突破性技術，可提供高解析和高速的缺陷檢測，其性能是市場中任何其他電子束系統都無法比擬的。
eSL10 電子束檢測系統採用多項革命性技術，使其有能力填補目前關鍵缺陷檢測的空白。例如，獨特的電子光學設計可提供業內最廣泛的操作範圍，可捕獲各種設備製程中的缺陷。還有，Yellowstone 掃描模式，在每次掃描中收集 100 億畫素的資料並支持高速運算同時又不會影響解析度，這樣可以在廣闊的區域內有效地計算偵測可疑熱點或發現缺陷。
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