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線上X光量測N2製程GAA關鍵尺寸

建立日期:2021/12/27
  • 作者: 工研院量測中心/劉軍廷 研究員
  • 出處: 2021 AOI論壇與展覽
  • 內容: 本篇為「2021 AOI論壇與展覽」演講簡報,內容簡介如下:

    以X光為基礎,建立關鍵尺寸X光反射式(CD-XRR)量測技術,應用在GAA結構關鍵尺寸量測,滿足量測微區≤ (50 x 50) µm2製程圖案需求,及穿透多層環繞式閘極結構,提供原子級解析度關鍵尺寸(CD)量測,並預計開發首台半導體2奈米GAA製程3維線上量測設備,提供半導體領導場技術驗證。
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