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半導體氣體微粒及其成分檢測技術

建立日期:2022/10/05
  • 作者: 工研院量測中心/劉定坤 工程師
  • 出處: 2022 AOI論壇與展覽
  • 內容: 本篇為「2022 AOI論壇與展覽」演講簡報,內容簡介如下:

    於半導體製程中所產生之汙染,會對產品的良率有很大的影響;而在製程後排放出之汙染,亦對環境有很大的影響。隨著半導體製程的精進,且須符合節能減碳的議題;本中心針對半導體氣體微粒及其成分檢測,開發線上監控之技術,包括微米粒子檢測模組Remote particle counter,奈米粒子檢測技術 GED-DMA-CPC,以及微汙染監控技術 Soft X-ray AMC monitor,以因應當前之需求。
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