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知識分享

晶圓表面微粒檢測技術

建立日期：2024/10/16
  • 作者： 工研院 量測技術發展中心 / 黃卯生 正研究員
  • 出處： 2024 AOI論壇與展覽
  • 內容： 本篇為「2024 AOI論壇與展覽」演講簡報，內容簡介如下：

    晶圓表面潔淨程度，會與後續製程的良率習習相關，因此用來檢測晶圓表面落塵微粒大小與數量的技術就十分重要。檢測技術從早期使用以高倍光學顯微鏡掃描，到後來以雷射光散射來檢測，技術雖算成熟，但仍有許多待突破的地方。本報告將介紹相關檢測技術並輔以本實驗室技術開發的案例做說明。
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