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薄膜蝕刻圖案的多波長橢偏影像對比研究

建立日期:2018/02/21
  • 作者: 王浩偉等
  • 出處: 明志科技大學 王浩偉;工研院量測中心 謝易辰
  • 內容: 薄膜光學檢測是薄膜製程中不可或缺的工具,隨著薄膜應用的廣泛,膜質種類及膜層數目逐漸增加,傳統薄膜影像對比檢測方法如白光影像檢測、偏光影像檢測、單波長及光譜式的影像橢偏檢測技術常無法提供足夠影像對比。本文針對此,提出多波長影像橢偏方法來解決此問題。我們以Fresnel方程及Jones Matrix薄膜偏光數學模型數值模擬,配合雙旋轉元件的多波長橢偏影像實驗,初步驗證薄膜橢偏對比可由特徵波長的選擇來加強,影像對比可較既有的光譜式影像橢偏方法更加明顯。既有方法因使用濾光片,過濾後的光譜帶寬仍很大,造成只有波長中心點的光滿足消光條件,偏離中心波長的光都會造成漏光,使得消光不完全,降低了與非消光區域的對比,而本實驗使用多波長可調雷射,已克服此缺點。且既有方法將調變元件分散在打光及影像擷取兩部份,系統架設複雜,而本實驗以調整偏振器方位角及相位補償器相位角的新方法,把調變元件集中在打光部分,可使系統更模組化。此方法可對薄膜蝕刻圖案缺陷,進行高影像對比之辨識檢測。

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