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偏極化低同調干渉顯微鏡於透明材質內部雙折射率變化之量測

建立日期:2018/02/21
  • 作者: 陳政雄等
  • 出處: 中正大學 陳政雄、黃永國;工研院量測中心 郭世炫、蘇哲暐、梁仁德
  • 內容: 本實驗室所架設之Linnik式偏極化低同調干渉顯微鏡(PS-OCM)已可用於多層性透明材質之非破壞性雙折射分佈之量測,PS-OCM利用低同干渉及同時偵測水平偏極及垂直偏極兩方向之Stroke參數,藉由測物光入射待測物後因待測在深度方向之折射率變化所產生之反射光和參考光產生干渉後,比較待測物反射光之垂直和水平方向之Stroke參數來求得待測物之雙折射率變化,並由待測物之Brewster’s constasnt or stress-optical coefficient來算出待測物之應力分佈。

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