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量測扭轉型液晶盒厚度之外差式影像偏光干涉儀
建立日期:2018/02/21
作者:
尤崇智等
出處:
成功大學機械系 尤崇智、羅裕龍
內容:
本研究發展出一相位型影像偏光外差干涉儀來量測扭轉型液晶盒的二維厚度分布。與以往文獻不同的是,我們首先使用光學外差干涉訊號的二維相位分佈,求出扭轉型液晶盒的厚度。藉由光學外差共路徑干涉的量測架構,可降低環境擾動對於訊號的影響,並改善訊噪比(signal-to-noise ratio);實驗結果證實了此方法用於量測扭轉型液晶盒全場厚度的可行性。
論文全文請詳附加檔案連結說明。
檔案下載:
量測扭轉型液晶盒厚度之外差式影像偏光干涉儀
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