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知識分享

白光垂直掃描演算法

建立日期：2018/02/12
  • 作者： 張宏彰等
  • 出處： 致茂電子 張宏彰、林耀明
  • 內容： 隨著半導體、微機電、生醫等科技產業的進步，相關研究及產品的製作越來越精細，以期有效利用有限的空間，伴隨之相關量測儀器的精確度要求也相對提升。近來因奈米製程的興起，量測精度達奈米級的自動光學檢測儀器也因應而生。白光干涉儀器為一奈米級自動光學檢測儀器，此干涉儀基於白光干涉原理，利用改變基準面及待測物表光程差的方式，產生一系列的干涉圖譜，繼而使用白光垂直掃描演算法(White light vertical scanning algorithm)計算出零光程差的位置，求出待測物表的高度。

    本論文以白光干涉條紋對稱於零光程差處、干涉條紋在零光程差處有最大亮度值以及干涉條紋頻率固定等特性發展出快速、準確分析干涉圖譜的MFPC©(Maximum Folding Phase Compensation)演算法，計算出待測物體表面階高。習知的演算法僅利用部分波包特性的演算法，本創作運用所有白光波包之特性作為演算的法則，可準確、快速的獲得待測物體之表面形貌。依此方法於白光干涉系統進行實際驗證，結果顯示此演算法不但在速度上優於現今速度超越其他演算法的質心法(Centroid Method)、量測重複性佳，且可將因繞射產生之bat wing 去除，此方法已實作在致茂電子發展之Chroma7502 系統上，並已提出專利申請。

    【論文全文請詳附加檔案說明】
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