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Goniometer Stage 旋轉中心調校之研究

建立日期:2018/02/12
  • 作者: 莊達峰等
  • 出處: 致茂電子 莊達峰、張維哲、林耀明
  • 內容: 本論文提出Goniometer Stage 之旋轉中心調校技術,以調整移動平台之移動與旋轉,配合干涉條紋之移動方向與疏密變化的觀念,找出Goniometer Stage 之旋轉中心,此方法可應用於白光干涉系統之樣品調平機制,以便於調平過程中可以將干涉條紋作為調整依據。

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