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應用於高階模造元件之多維度量測平台
建立日期:2018/02/12
作者:
陳俊賢
出處:
工研院量測中心 陳俊賢
內容:
光干涉技術因為具有快速、精細度高、以及非破壞性檢測等優點,而普遍地被應用於平面的測量;但是對於非球面傾斜度過高的表面形貌,則會因為收光角度的限制而無法量測。因此必須搭配一個以非球面球心為旋轉中心偏擺的量測平台,如此便可以克服收光角度限制的問題;由於會取不同角度之影像,也必需提供影像疊合參考點的定位機制。如此整合上述提及偏擺機構與定位機制的功能,便成為於高階模造元件之多維度量測平台。
論文全文請詳檔案下載連結說明。
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應用於高階模造元件之多維度量測平台
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