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技術供應

高精度據模式奈微米製像技術
High-precision Model-based Nano- and Mirco- Patterning Technology

發布日期：2020-03-06
  • 研發團隊： 台灣大學/電機工程學系/奈米設計與製造系統實驗室
  • 研發團隊負責人： 蔡坤諭
  • 技術類別： 特殊光學設計、量測方法
  • 應用領域： FPD檢測
    PCB檢測
    半導體/晶粒檢測
    光碟片檢測
    機械/車輛/金屬檢測
    印刷/紡織檢測
    太陽光電檢測
    元件/模組/平台
    生醫檢測
  • 技術簡介： 先進積體電路製造商主要運用深紫外光微影技術，未來將導入極紫外微影甚至電子束直寫微影。除先進製程光罩與晶圓製作，微影製像技術廣泛應用於電子與光電產業各層面如中後段半導體、非矽半導體、封裝、印刷電路板、顯示器面板、微機電系統、非成像光學元件等製程。雖然不同產業解析度需求不同，也可能利用光學鄰近印刷、光學投影、雷射束直寫、電子束直寫等不同曝寫機制，物理上同樣面臨光波繞射效應與電子散射效應影響造成製程鄰近效應。本團隊長年致力於前瞻奈米微影解析度提升技術，掌握其學理實務關鍵研發出電子束微影曝寫參數優化、微影製程與設備參數校準、電子束微影鄰近效應模擬與模型校準、據模式電子束微影鄰近效應修正、據模式光學與極外光微影鄰近效應模擬與修正、據模式蝕刻製程鄰近效應模擬與修正等技術，提供微影製像製程規劃與參數優化、鄰近效應預測及模型校準、鄰近效應修正、鄰近效應修正前後之模擬及其性能(如特徵關鍵尺寸)預測等等服務，將技術廣泛擴散至各種需要應用與供應高精度微影製像技術的產業，改善其製像解析度與良率，以利技術與產品競爭力之提升。
  • 合作或技轉聯絡人： 陳儀儒/ TEL 02-33669638/ diochen@ntu.edu.tw
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